Gan Charger 기술의 기본 |ZONSAN

2022-12-03
질화 갈륨으로도 알려진 Gan은 개발 및 적용 가능성이 큰 최신 반도체 재료입니다.GAN은 밴드 폭 측면에서 실리콘보다 3 배 더 크며, 파괴 전자 강도 측면에서 10 배, 포화 전자 이동 속도 측면에서 3 배, 열전도율 측면에서 2 배 더 높습니다.이러한 성능 개선의 장점 중 일부는 GAN이 실리콘보다 고전력 및 고주파 전력 장치에 더 적합하지만 여전히 작고 전력 밀도가 높다는 것입니다.보다 직관적 인 예는 모든 전기 기기가 GAN으로 대체되면 전체 전기 소비가 20%감소한다는 것입니다.


반도체 재료의 병력


1. 1 세대 반도체 재료
SI, GE 기반 원소 반도체, 중소 전력 마이크로 전자 장치
2. 2 세대 반도체 재료
GAAS, INP 및 기타 화합물 반도체, LED, LD 및 기타 광전자 장치
3. 3 세대 반도체 재료
간, SIC 및 기타 광대역 반도체, 고전력 마이크로 전자, 광전자 및 마이크로파 장치

간의 특징

1. 금지 된 밴드 너비, 빨간색, 노란색, 녹색, 파란색, 바이올렛 및 자외선 범위를 덮을 수 있습니다.
2. 고주파 특성, 300GHz에 도달 할 수 있습니다 (실리콘은 10G, GAA는 80G입니다)
3. 고온 특성, 300 ° C에서의 정상 작동 (항공 우주, 군사 및 기타 고온 환경에 매우 적합)
4. 전자 드리프트의 높은 포화 속도, 작은 유전 상수, 양도 전도도
5. 산, 알칼리 및 부식 저항 (가혹한 환경에서 사용할 수 있음)
6. 고전압 특성 (충격 저항성, 높은 신뢰성)
7. 고전력 (고전력 장치)

간 응용 프로그램

1. 벽 충전기, 데스크탑 충전기
2. RF 구성 요소
3. Gan Hemt Chip, Hemt MMIC
4. 활성 단계 레이더
5. 광대역 통신
6. 마이크로파 전원 장치

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